日本國立材料研究所Michiko YOSHITAKE高級(jí)研究員訪問新能源技術(shù)研究所
發(fā)布:2010-11-05
來源:寧波材料技術(shù)與工程研究所
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字號(hào):小 大 打?。?a href="javascript:pintDocument()">應(yīng)新能源技術(shù)研究所的邀請(qǐng),日本國立材料研究所(NIMS)Michiko YOSHITAKE高級(jí)研究員于2010年10月29日訪問新能源所,為新能源所的師生員工分別做了題為“ Vacuum technology and surface analysis ”和“ Interface characterization of a MOS structure by biased X-ray photoelectron spectroscopy ”的精彩學(xué)術(shù)報(bào)告,并與30余位科研人員和研究生進(jìn)行了交流。
在第一場(chǎng)報(bào)告中,Michiko YOSHITAKE高級(jí)研究員詳細(xì)介紹了真空技術(shù),薄膜制備技術(shù)以及真空分析技術(shù);第二場(chǎng)報(bào)告則詳細(xì)說明如何運(yùn)用XPS分析表征金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)的界面。這兩場(chǎng)報(bào)告內(nèi)容生動(dòng)豐富,引起了在座科研人員和研究生的熱烈討論。
Michiko YOSHITAKE1987年畢業(yè)于日本東京大學(xué),并獲得博士學(xué)位。她的研究涉及電子設(shè)備、傳感器和催化領(lǐng)域中金屬/超薄氧化鋁/金屬結(jié)構(gòu)的合成,利用多重技術(shù)表面和表面勢(shì)能以及人工修飾表面分子吸附等。目前已發(fā)表期刊論文,綜述文章150余篇,并于2008年獲得Ohm獎(jiǎng)。

(供稿:新能源所 黃琦金、楊茜/攝影:黃琦金)