美國應(yīng)用材料公司劉鳳全博士到寧波材料所交流訪問
4月21日，美國應(yīng)用材料公司高級研究員劉鳳全博士訪問中科院寧波材料技術(shù)與工程研究所，并做了題為“電化學(xué)機械平坦化工藝及其設(shè)備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”的專題報告，寧波材料所葉繼春研究員主持報告會，新能源所和其他事業(yè)部感興趣的師生員工參加了報告會并提問。
報告中，劉鳳全博士結(jié)合半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展需求（更小的結(jié)構(gòu)、更多的層次結(jié)構(gòu)、光刻精度要求），介紹了電化學(xué)機械平坦化工藝的發(fā)展歷程，詳細(xì)講解了化學(xué)機械平坦化工藝和電化學(xué)機械平坦化工藝的技術(shù)原理和應(yīng)用特點?；瘜W(xué)機械平坦化工藝依賴研磨液和機械反壓力，可以實現(xiàn)微納米級別的平坦化處理精度，應(yīng)用于先進芯片制造。然而，隨著半導(dǎo)體芯片更高性能方面的要求（尤其是65納米及其以后），晶體管結(jié)構(gòu)異常復(fù)雜和高度互連，需要采用銅和低介電材料以提高芯片功能和靈活性，而材料硬度會隨著介電參數(shù)下降而大幅降低，對于化學(xué)機械工藝而言，更低的介電材料增加了材料受損的程度和機會，此時就需要發(fā)展依靠非機械壓力控制的電化學(xué)機械平坦化工藝。電化學(xué)機械平坦化工藝采用多區(qū)域電極，通過控制電壓大小，靈活、有效、精確地控制去除層輪廓和終點，可以實現(xiàn)高去除率和納米級平坦化效果。劉鳳全博士向大家展示了其在研磨液（化學(xué)配方、酸堿度、研磨顆粒尺寸、抑制劑等）、電化學(xué)機械研磨模型建立，以及電化學(xué)機械平坦化設(shè)備開發(fā)及應(yīng)用方面的系列工作。劉博士的報告深入淺出，與會人員全程全神貫注?；瘜W(xué)拋光和電化學(xué)拋光是比較常見的化工工藝，在各行業(yè)具有廣泛的應(yīng)用，然而對于半導(dǎo)體應(yīng)用而言，需要實現(xiàn)超高精度和十分可控，并且需要與前后段工藝流程良好兼容。劉博士把這種常規(guī)的化工工藝做到極致，另在座的科研人員欽佩不已。報告會上，與會人員就多區(qū)域電極設(shè)計及電化學(xué)機械平坦化設(shè)備在新領(lǐng)域的應(yīng)用拓展等方面提出問題，劉鳳全博士均一一給出詳細(xì)解答。
報告人簡介：劉鳳全，博士，美國應(yīng)用材料（Applied Materials）公司高級研究員（Senior Member Technical Staff）。先后在南開大學(xué)獲得學(xué)士、博士學(xué)位，分別在德國哥廷根大學(xué)（University of Gottingen）和伯克利大學(xué)（University of California Berkeley）從事博士后研究，2013年至今任美國應(yīng)用材料公司高級研究員。劉鳳全博士擅長半導(dǎo)體設(shè)備制造和工藝開發(fā)，高效薄膜太陽能電池工藝及其設(shè)備研發(fā)，半導(dǎo)體耗材化學(xué)配方研發(fā)和生產(chǎn)，化學(xué)刻蝕工藝和配方應(yīng)用于金屬導(dǎo)體、半導(dǎo)體和絕緣體材料及其器件的刻蝕，納米顆粒和薄膜表面修飾用于多功能懸浮液和選擇性氣相沉積或電鍍等領(lǐng)域。劉鳳全博士發(fā)表了30多篇學(xué)術(shù)論文，擁有國內(nèi)外專利80余項，曾多次受邀在首要的國際會議上做報告。曾獲得2002年紐約專利分部物理科學(xué)發(fā)明人獎；應(yīng)用材料公司2003 總統(tǒng)獎；應(yīng)用材料2004 客戶最佳貢獻獎；2005 IEEE芯片制造贏家；應(yīng)用材料公司2006年杰出客戶支持團隊獎；應(yīng)用材料公司工藝部門2009發(fā)明人獎等獎項。
報告會現(xiàn)場
（新能源所 王丹）